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显影废液处理设备 匀胶显影 负胶显影液2016年4月14日，由沈阳芯源公司承担的2012年度国家02科技重大专项“300mm晶圆匀胶显影设备研发”项目在沈阳顺利通过任务、财务验收，标志着我国前道芯片制程领域用涂胶显影设备在国产化进程又迈出了重要的一步，不仅打破了该类设备一直由国外生产厂商长期垄断、受制于人的局面，也填补了国内该项技术空白，为我国前道芯片制程涂胶显影设备进入前段市场打开了突破口。
沈阳芯源公司联合中科院沈阳自动化研究所、清华大学深圳研究生院、上海集成电路研发中心以、上海微电子装备有限公司等几家产学研用合作单位，成功突破193nm光刻工艺超薄胶膜均匀涂敷、精细化显影、精密、温控热处理等关键核心技术，掌握了300mm匀胶显影设备研制和工艺应用技术；建立了前道制程300mm匀胶显影设备工艺实验及测试平台;成功研制出具有自主知识产权的300mm光刻工艺匀胶显影设备考核测试机和上线示范应用机；实现5台项目产品上线示范应用。
该项目成果产品的成功上线验证及示范应用，加快了前道涂胶显影设备国产化进程，将大大降低客户采购成本和对国外设备的依赖性，该项目共性技术也可成功辐射应用于高端封装、LED等技术设备领域，对该类设备产能和稳定性的具有极大的提升作用。同时，该项目的市场化、产业化也将为芯源公司带来新的增长突破点，也将进一步发挥芯源公司作为辽沈地区IC装备龙头企业对产业链的拉动作用，引领辽沈地区传统加工业进入精密加工行业，带动产业优化升级，推动辽沈地区集成电路产业规模化、集聚化发展。
