ZF500有机蒸发镀膜机
广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。
系统组成:
主要由真空室、蒸发源、样品台、 真空抽气及测量、膜厚测试、电控系统组成。
技术指标：
极限真空度4×10-5Pa，系统漏率：1.2×10-7PaL/S；恢复真空时间：40分钟可达6.0×10 Pa-4
真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm
样品台：尺寸为4英寸4平面样品；
有机束源炉：数量：4支，标准型600度控温；
样品架：安装加热炉。基片的温度从室温至600℃（硅片上表面的温度，只需标定一次即可）
4套挡板系统：动密封手动控制；
样品挡板（1套），磁力拨叉，
膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?
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全自动热蒸发镀膜机钙钛矿镀膜设备
ZF450型全自动热蒸发镀膜机
沈阳市鹏程真空技术性责任有限公司——专业电阻器热蒸发镀膜供货商，我们为您提供下列信息内容。
选用3～8组蒸发源可适配金属材料、有机化合物蒸发。广泛运用于高等院校材料、物理学、有机化学、电子器件、电力能源等有关课程及其科研单位制取高品质作用塑料薄膜、蒸镀电级等，非常合适OPV/钙钛矿/无机物太阳能薄膜充电电池、半导体材料、有机化学EL、OLED显示信息科学研究与开发设计行业。
1.前开关门真空内腔，便捷拿取基片、拆换蒸发舟、加上蒸发材料及其真空室的平时维护保养；
2.1200L/s分子泵做为主抽泵，真空限达到5×10-5Pa；
另可选择進口磁悬浮分子泵或是低温泵做为主抽泵，真空限达到3×10-6Pa；
3.组水冷器蒸发电级，可长期平稳工作中，适配金属材料材料与有机化学材料的蒸发源设计方案，
源间有避免交叉式环境污染挡板；
4.真空蒸发开关电源，恒流电源/恒输出功率操纵。可保持一键启动和终止的自动控制系统作用；
5.较大120mm基片/15～25mmITO/FTO夹层玻璃25片，可订制一体化高精密刻蚀掩膜板；
6.基片台自转，钙钛矿镀膜设备，转速比0～25rpm持续可调式；
7.衬底可挑选加温或水冷散热，杭州钙钛矿镀膜设备，源基距较大350mm；
8. 选用進口膜厚监控器仪在线监控和操纵蒸发速度、膜厚；
9. 可堆积金属材料（Au， Ag， Al， Ca， Cu， Mg， Fe，Cr， Ni等）、非金属材料、化学物质（MoO3， LiF等）
及有机化合物材料，徐州钙钛矿镀膜设备，可扩展堆积单面膜、双层膜及混和膜；
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多源蒸发系统介绍
沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业供应电阻热蒸发镀膜产品，汕头钙钛矿镀膜设备，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
主要用途：
系统主要用来生长EL OEL分子有机电致发光器件薄膜的研究工作
系统组成:
该类设备为双室带手套箱结构的有机、无机、多源有机、无机气相分子沉积设备，采用直线式结构，由一个金属材料生长、氧化物生长室、一个有机材料生长室和一个手套箱组成，金属材料生长和氧化物生长室以及进样室/氧化物生长室之间通过空气锁联接，样品通过带远程手控盒功能的电动磁力耦合装置在两个生长室之间手动传递。可选手套箱。
技术指标：
有机蒸发室：经烘烤6小时左右，并连续抽气真空优于8.0×10Pa 无机蒸发室：经烘烤6小时左右，并连续抽气真空优于6.6×10Pa 蒸发室：方形真空室，尺寸：450×400×350mm 恢复真空时间：40分钟可达6.6×10Pa（短时间暴露大气并充干燥氮气后开始抽气） 样品尺寸：50×50mm或100×100mm 设有掩膜板和掩膜库金属材料/氧化物生长室可放置1-4个热阻蒸发舟和一个掩膜库有机材料生长室可放置1-8个高温或低温束源炉石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统，可选手套箱。
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